不導(dǎo)電膜NCVM-TNCVM鍍膜方法

不導(dǎo)電膜NCVM-TNCVM鍍膜方法

  所謂真空鍍金屬不導(dǎo)電膜，實(shí)質(zhì)是在產(chǎn)品表面物理氣相沉積一層金屬或金屬化合物薄膜，使產(chǎn)品表面擁有金屬光澤和色彩并要求該膜層具有較大的電阻（并非完全不導(dǎo)電），一般以銀白色不導(dǎo)電膜為主，還有部分是在銀白色不導(dǎo)電膜表面進(jìn)行各種顏色著色。在這里，我主要講高要求的銀白色金屬不導(dǎo)電膜的制作。大家都知道，金屬或金屬化合物都具有導(dǎo)電性，只是導(dǎo)電程度不同而已。但是，當(dāng)金屬或金屬化合物呈一種薄膜的狀態(tài)時(shí)，其相應(yīng)的物理特性會(huì)有所不同。常規(guī)的鍍膜材料中，如：銀是銀白效果和導(dǎo)電性能最好的金屬，但它厚度在5納米以下時(shí)，它是不導(dǎo)電的；鋁的銀白效果和導(dǎo)電性比銀稍微差一些，但它厚度在0.9納米時(shí)，就已經(jīng)具備導(dǎo)電性。為什么會(huì)這樣呢？那是因?yàn)殂y分子的連續(xù)性沒(méi)有鋁的好，所以在相對(duì)膜厚下，它的導(dǎo)電性反而較差。我們真空鍍金屬不導(dǎo)電膜其實(shí)就是利用了某些金屬的分子連續(xù)性差的原理，把它厚度控制在某個(gè)范圍，使其具備銀白色外觀并且電阻超大。由此可見(jiàn)，金屬不導(dǎo)電膜的效果跟它的膜厚是直接相關(guān)的。只有在固定的膜厚下，才能得到相應(yīng)穩(wěn)定的銀白色不導(dǎo)電膜。 

       上面已經(jīng)講到，銀白效果和導(dǎo)電性能最好的銀在5納米以下的厚度時(shí)，它是不導(dǎo)電的，那么，是不是可以用銀來(lái)做我們需要的金屬不導(dǎo)電膜呢？答案是否定的。因?yàn)?納米以下厚度的銀基本上是透明無(wú)色的，盡管它不導(dǎo)電，但它不能同時(shí)具備銀白色的效果。同樣，鋁也不行。所以，我們需要一種能夠鍍出銀白色金屬光澤并具有較大的電阻金屬材料。按照現(xiàn)目前的市場(chǎng)行情，大家所采用的是純度在99.99%左右的錫。厚度在30納米以下的錫，連續(xù)性相當(dāng)?shù)牟睿苋〉勉y白色金屬光澤并具有較大的電阻。 

     下面，我將主要講講在手機(jī)配件表面物理氣相沉積錫的工藝。 

我們?cè)谧霾粚?dǎo)電膜時(shí)，整體工藝大致為： 素材檢驗(yàn)---前處理---裝夾具---上線---手動(dòng)除塵---自動(dòng)除塵---預(yù)熱---底噴---流平---IR烘烤---冷卻---UV固化---冷卻---下線檢驗(yàn)---上架---PVD---下架---上線---自動(dòng)除塵---預(yù)熱---面噴---流平---IR烘烤---冷卻---UV固化---冷卻---下線檢驗(yàn)---拆夾具---包裝。 由于其它工藝比較簡(jiǎn)單，而且可控性好，我就不多講了，具體講錫的PVD制作。 現(xiàn)目前市面上真空鍍金屬不導(dǎo)電膜主要分為用立式機(jī)蒸發(fā)鍍和直流磁控濺射鍍兩種，其中又以立式真空機(jī)蒸發(fā)鍍?yōu)橹鳌?nbsp;

       下面我就和各位分析一下這兩種做法： 

1，立式機(jī)磁控濺射法： 

A，技術(shù)分析： 

       眾所周知，磁控機(jī)的鍍膜效果受靶材磁場(chǎng)均勻性，氬氣在真空室的分布均勻性以及真空室內(nèi)真空度的均勻程度等難以解決的問(wèn)題的困擾，而這些問(wèn)題依然是全世界都存在的技術(shù)瓶頸。還有鍍膜時(shí)電壓的穩(wěn)定性，起弧和降壓電流不穩(wěn)定性等等問(wèn)題。越是大的機(jī)型，這些問(wèn)題越是明顯，造成所制造的產(chǎn)品上中下部位甚至是同位置的產(chǎn)品膜厚和顏色相差懸殊，小型的設(shè)備相對(duì)好一些。但是，從生產(chǎn)成本和效率的角度來(lái)看，間歇式大型機(jī)有產(chǎn)量但沒(méi)有質(zhì)量保障，小型機(jī)質(zhì)量較好但數(shù)量過(guò)低。因此，兩種機(jī)型都不理想。 

B，解決方案： 

       用磁控機(jī)鍍銀白色金屬不導(dǎo)電膜，既要產(chǎn)量，又要質(zhì)量，唯一的辦法是采用小型連續(xù)式磁控濺射生產(chǎn)線。這種機(jī)型，既能相對(duì)解決大小型間歇式機(jī)型品質(zhì)與數(shù)量的矛盾，又能避開(kāi)間歇式機(jī)型每次鍍膜都得起弧和降壓所帶來(lái)的影響。整體上來(lái)講，這是現(xiàn)目前最理想的磁控鍍銀白色金屬不導(dǎo)電膜的方式，缺點(diǎn)是設(shè)備投資較高。這種設(shè)備，肇慶科潤(rùn)和中山天元真空設(shè)備有限公司國(guó)產(chǎn)制作的我覺(jué)得還不錯(cuò)。 

2，立式蒸發(fā)鍍膜法： 

A，技術(shù)分析： 

       影響蒸發(fā)鍍膜的效果幾大要素主要為：真空度，真空室空間大小。鍍膜材料的品質(zhì)和份量，蒸發(fā)源的選擇，產(chǎn)品與蒸發(fā)源的距離，蒸發(fā)源相互之間間距，蒸發(fā)電流大小和分布，蒸發(fā)時(shí)間，機(jī)器公自轉(zhuǎn)速度等等蒸發(fā)源與蒸發(fā)源之間的間距，蒸發(fā)電流的大小和分布，蒸發(fā)時(shí)間，機(jī)器公自轉(zhuǎn)速度等等。對(duì)于立式機(jī)，其中，真空度，真空室空間大小。鍍膜材的品質(zhì)和數(shù)量，蒸發(fā)源的選擇，產(chǎn)品與蒸發(fā)源的距離，蒸發(fā)電流大小和分布，蒸發(fā)時(shí)間，機(jī)器公自轉(zhuǎn)速度等等因素的可控性較高，在技術(shù)上對(duì)鍍膜效果影響不大。但由于蒸發(fā)源需要水平裝置，因此蒸發(fā)源之間的間距會(huì)較大，而這直接關(guān)系到上中下部位的產(chǎn)品甚至單個(gè)產(chǎn)品的不同位置和蒸發(fā)源之間的距離，也就直接影響到它們的厚度，造成單次出爐的產(chǎn)品顏色和導(dǎo)電性不均勻。 

B，解決方案： 

       裝置鎢絲采用十字交叉并多層次高低交錯(cuò)，適當(dāng)加裝一些鎢絲，盡可能的使蒸發(fā)源照射范圍呈360度并層次分化距離較小。 

3，臥式蒸發(fā)鍍膜法： 

A，技術(shù)分析： 

       結(jié)合上面對(duì)蒸發(fā)鍍膜法的分析，由于臥式機(jī)型本身就可以使水平裝置的蒸發(fā)源之間零間距，相對(duì)立式機(jī)，能夠叫好的解決上中下部位的產(chǎn)品甚至單個(gè)產(chǎn)品的不同位置和蒸發(fā)源之間的距離，也就是說(shuō)可以得到較為理想的均勻膜層。唯一不足的地方就是對(duì)裝掛方式的要求較高。 

B，解決方案： 根據(jù)UV涂裝設(shè)備的產(chǎn)品裝掛方式，結(jié)合臥式機(jī)所需的方式，找出雙方面都理想的裝掛方式。